對于專利申請新手來說，可能會陷入專利申請的誤區(qū)中，下面好辦易給大家來介紹專利申請常見的三個誤區(qū)，希望大家都能避開誤區(qū)，順利取得專利證書。
誤區(qū)1：技術(shù)方案交待不清。
很多單位的發(fā)明人提交的專利技術(shù)交底書過于簡單，有的只有幾句話，有的只有幾個附圖，技術(shù)方案細(xì)節(jié)完全沒有交待清楚，這給專利代理人撰寫正式的專利申請文件帶來很大困難。低質(zhì)量的專利交底書會產(chǎn)生低質(zhì)量的專利申請，技術(shù)交底書的質(zhì)量是整個專利質(zhì)量的源頭和關(guān)鍵。詳細(xì)的技術(shù)交底書，會有利于專利代理人理解，可提高專利代理人撰寫速度、水平，以及擴大專利的保護范圍。
在要求發(fā)明人提供更多的技術(shù)方案時，他們會以技術(shù)保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露技術(shù)信息，而恰恰忽視了公開不充分的問題。大量案例表明，如果一件專利申請被審查員以技術(shù)方案公開不充分為由而發(fā)出審查意見通知書，則這件專利申請有很大的概率可能被駁回。這一點希望引起發(fā)明人的高度重視。
誤區(qū)2：專利申請前不檢索。
有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術(shù)方案的新穎性如何不確定，根本不知道其技術(shù)方案有沒有公開過或公開使用過。有調(diào)查機構(gòu)對我國沿海某發(fā)達(dá)地區(qū)的科技人員進行過調(diào)查統(tǒng)計，發(fā)現(xiàn)有近一半的科研人員不知道或從未用過國外的科技報告、標(biāo)準(zhǔn)、專利等情報價值很高的文獻(xiàn)。這也是我國科研項目的重復(fù)率大大高于發(fā)達(dá)國家的原因。
就公開使用而言，只有國內(nèi)的使用才影響技術(shù)方案的新穎性。也就是說，國外已經(jīng)普遍使用過的東西，如果國內(nèi)沒有出現(xiàn)，各種文獻(xiàn)也沒有相關(guān)記載，那你就可以申請專利。這一點在將來的專利法修改中可能有所變動。
可見，檢索工作在專利申請中是非常重要的一環(huán)，如果他人已經(jīng)就某一技術(shù)方案申請過專利或者在相關(guān)文獻(xiàn)中公開，您沒有做檢索也去就這一技術(shù)方案申請專利，那只能是白白浪費時間、金錢和精力。
誤區(qū)3：先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利。
有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。因為發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術(shù)內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。現(xiàn)實生活中也有很多具有市場前景的專利申請因先發(fā)表文章或成果鑒定而不得不放棄申請專利。
以上就是好辦易為大家介紹的“專利申請常見的三個誤區(qū)”，希望專利申請人們都能避開上述誤區(qū)，如您還有其他疑問，不妨來好辦易。好辦易擁有全國各地的專利代理服務(wù)商家，保證快速為您解決難題。